化合物、组合物、表面处理剂、物品的制造方法、及物品与流程
- 国知局
- 2024-11-21 11:53:30
本公开涉及化合物、组合物、表面处理剂、物品的制造方法、及物品。
背景技术:
1、近年,为了提高外观、视觉辨识性等性能,要求不易对物品的表面赋予指纹的技术、容易去掉污迹的技术。作为具体的方法,已知使用表面处理剂对物品的表面进行表面处理的方法。例如,专利文献1中记载了由正十八烷基三甲氧基硅烷形成的表面处理剂。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1:国际公开第2008/016029号
技术实现思路
1、发明要解决的问题
2、另一方面,从拒水性、耐磨耗性等观点出发,对表面处理剂要求进一步的改良。鉴于所述状况,本公开涉及能对基材赋予良好的拒水性及耐磨耗性的化合物、包含该化合物的组合物及表面处理剂、以及使用了该表面处理剂的物品及物品的制造方法。
3、用于解决问题的方案
4、用于解决上述问题的手段包括以下方案。
5、<1>一种化合物,其包含碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基,并且包含反应性甲硅烷基,所述反应性甲硅烷基直接或借助多价连接基团连接于前述碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基。
6、<2>根据<1>所述的化合物,其中,前述碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基的碳数为19~30。
7、<3>根据<1>或<2>所述的化合物,其中,前述反应性甲硅烷基包含烷氧基甲硅烷基。
8、<4>一种化合物,其由下述式(1)表示:
9、(a)jy1[-si(r)nl3-n]g…(1)
10、式(1)中,
11、a为ch3(ch2)m1-或[l3-n(r)nsi-]ky2-(ch2)m2-,此处,m1为18以上的整数,m2为19以上的整数,y2为单键或(k+1)价的连接基团,k为1以上的整数,r、l、及n的定义分别与式(1)中的r、l、及n的定义相同,
12、y1为单键或(j+g)价的连接基团,
13、r各自独立地为1价的烃基,
14、l各自独立地为水解性基团或羟基,
15、n为0~2的整数,
16、j为1以上的整数,
17、g为1以上的整数。
18、<5>根据<4>所述的化合物,其中,式(1)中,m1为18~29,m2为19~30。
19、<6>根据<4>或<5>所述的化合物,其中,式(1)中,l中的至少1个为烷氧基。
20、<7>根据<4>~<6>中任一项所述的化合物,其中,
21、式(1)中,
22、a为ch3(ch2)m1-,并且g为2以上的整数,或者
23、a为[l3-n(r)nsi-]ky2-(ch2)m2-,并且g及k各自独立地为2以上的整数。
24、<8>一种化合物,其由下述式(1-1)或(1-2)表示:
25、[ch3(ch2)m1-]j1y10a(b)g1…(1-1)
26、(b)k2y12a-(ch2)m2-y11a(b)g2…(1-2)
27、式(1-1)中,
28、y10a为单键或(j1+g1)价的连接基团,
29、b各自独立地为-ql-ch=ch2,此处,ql为单键或2价的连接基团,
30、m1为18以上的整数,
31、j1为1以上的整数,
32、g1为1以上的整数,
33、式(1-2)中,
34、y11a为单键或(g2+1)价的连接基团,
35、y12a为单键或(k2+1)价的连接基团,
36、b各自独立地为-ql-ch=ch2,此处,ql为单键或2价的连接基团,
37、m2为19以上的整数,
38、k2为1以上的整数,
39、g2为1以上的整数。
40、<9>一种组合物,其包含<1>~<7>中任一项所述的化合物和液体介质。
41、<10>一种表面处理剂,其包含<1>~<7>中任一项所述的化合物。
42、<11>根据<10>所述的表面处理剂,其还包含液体介质。
43、<12>一种物品的制造方法,其中,使用<10>或<11>所述的表面处理剂对基材进行表面处理,制造在基材上形成有表面处理层的物品。
44、<13>一种物品,其包含基材和表面处理层,所述表面处理层配置于前述基材上,且用<10>所述的表面处理剂进行了表面处理。
45、<14>根据<13>所述的物品,其中,前述物品为光学构件。
46、<15>根据<13>所述的物品,其中,前述物品为显示器或触摸面板。
47、发明的效果
48、根据本公开,提供能对基材赋予良好的拒水性及耐磨耗性的化合物、包含该化合物的组合物及表面处理剂、以及使用了该表面处理剂的物品及物品的制造方法。
技术特征:1.一种化合物,其包含碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基,并且包含反应性甲硅烷基,该反应性甲硅烷基直接或借助多价连接基团连接于所述碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基。
2.根据权利要求1所述的化合物,其中,所述碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基的碳数为19~30。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中,所述反应性甲硅烷基包含烷氧基甲硅烷基。
4.一种化合物,其由下述式(1)表示,
5.根据权利要求4所述的化合物,其中,式(1)中,m1为18~29,m2为19~30。
6.根据权利要求4或5所述的化合物,其中,式(1)中,l中的至少1个为烷氧基。
7.根据权利要求4~6中任一项所述的化合物,其中,
8.一种化合物,其由下述式(1-1)或(1-2)表示,
9.一种组合物,其包含权利要求1~7中任一项所述的化合物和液体介质。
10.一种表面处理剂,其包含权利要求1~7中任一项所述的化合物。
11.根据权利要求10所述的表面处理剂,其还包含液体介质。
12.一种物品的制造方法,其中,使用权利要求10或11所述的表面处理剂对基材进行表面处理,制造在基材上形成有表面处理层的物品。
13.一种物品,其包含基材和表面处理层,所述表面处理层配置在所述基材上,且用权利要求10所述的表面处理剂进行了表面处理。
14.根据权利要求13所述的物品,其中,所述物品为光学构件。
15.根据权利要求13所述的物品,其中,所述物品为显示器或触摸面板。
技术总结化合物、包含该化合物的组合物及表面处理剂、以及使用该表面处理剂的物品及物品的制造方法,所述化合物包含碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基,并且包含反应性甲硅烷基,该反应性甲硅烷基直接或借助多价连接基团连接于前述碳数19以上的直链烷基或碳数19以上的直链亚烷基。技术研发人员:原弘之,渡边弘毅,青山元志受保护的技术使用者:AGC株式会社技术研发日:技术公布日:2024/11/18本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20241120/333226.html
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