一种钛铝结合件PVD膜层退镀工艺及其应用的制作方法

本发明涉及真空镀膜，具体涉及一种钛铝结合件pvd膜层退镀工艺及其应用。

背景技术：

1、pvd是英文physical vapor deposition即物理气相沉积的缩写，pvd工艺是物理过程实现物质转移，将原子或分子由材料源转移到基材表面上的过程。具体来说，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上的工艺。pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命长，同时膜层也能对工件的外观起到很好的装饰作用。在手机行业，pvd镀膜技术可以应用于手机中框、外壳、按键、摄像头镜片、手机膜等部分的镀膜。目前，一些高端品牌手机边框已经采用了钛合金材质上镀pvd，它的强度要远远高于铝合金材质，而相比不锈钢材质来说又起到了轻质化效果。

2、然而，在实际生产过程中即使再成熟的镀膜工艺，也会出现膜层品质不良的情况，如果直接将工件作废处理，会浪费大量的材料成本。如手机中框从材料加工到镀膜阶段，耗费了大量的材料、加工过程及人力，若报废处理其成本浪费太高，因此需要退膜返工处理以便再次镀膜。传统的退膜工艺多采用有机碱、无机碱等强碱性溶液配合氧化剂、络合剂等，或者采用含氟的退镀液去除pvd膜层，但是这种工艺对于含有铝合金氧化膜中板的手机中框工件会造成腐蚀。因此目前亟需一种能够退除边框钛合金表面的pvd膜层的同时又不损伤中板铝合金氧化膜的退膜工艺。

技术实现思路

1、针对现有技术中的缺陷，本发明提出了一种钛铝结合件pvd膜层退镀工艺及其应用。

2、本发明提供一种钛铝结合件pvd膜层退镀工艺，包括如下步骤：

3、s1:将工件上挂并确保工件不同位置导电性良好；

4、s2:将上述工件置于退镀液a中退除pvd膜层；

5、s3:将s2处理后的工件进行漂洗；

6、s4:将s3处理后的工件置于退膜液b中去黄膜；

7、s5:将s4处理后的工件进行漂洗；

8、s6:将s5处理后的工件进行干燥处理；

9、所述退镀液a为经ph调节剂调节ph值至7-8的td311；

10、所述退膜液b为tm312。

11、将td311进行ph调节能够避免原液碱性过强进而腐蚀钛铝结合件的铝氧化层。步骤s3进行漂洗能够去除残留于工件和挂具中的退镀液a，防止其带入到退膜液b槽液中而造成污染，漂洗采用纯水漂洗2-3道；步骤s2中退除pvd膜层后裸露在外的钛合金在外加电压8-13 v的作用下，在退镀液a中会进行阳极氧化反应生成非晶态不定型钛氧化膜，其在薄膜干涉作用下显示出一层黄膜，影响工件外观，因此设置步骤s4能够去除步骤s2中生成的黄色钛氧化膜。步骤s4中的酸性退膜药水在外加阴极通电下，使钛合金表面的氧化物膜在h+侵蚀下发生溶解而去除。

12、进一步地，所述ph调节剂为柠檬酸；用柠檬酸来调节td311原液的ph值，一方面能够降低退镀液a的碱性，另一方面柠檬酸根还能够作为金属络合剂促进pvd膜层的脱除。

13、进一步地，所述步骤s2中，阳极连接工件，阴极板为不锈钢板或高纯度石墨板中的任意一种。

14、进一步地，所述步骤s2中操作电压为8-13 v，操作温度为20-30℃，退镀时间为10-20 min。操作电压过低，表面的pvd膜层退不掉或者退不干净；操作电压过高，虽然使退镀效率加快，但会使裸露出的钛合金表面生成颜色更黄甚至紫色的钛氧化膜，增加后工序退膜难度。

15、进一步地，所述步骤s4中操作电压为2-5 v，操作温度20-30℃，时间5-10 min。操作电压过低，退膜速度慢难以进行退膜，操作电压过高，会使速度加快，但退膜后容易起灰，需要进行超声波除灰，增加了工艺的繁琐性；操作温度过低时会降低退膜速度，操作温度过高时，会对工件造成腐蚀。

16、进一步地，所述步骤s4中阴极连接工件，阳极板为高纯度石墨板；由于槽液呈酸性，因此采用高纯度石墨板能够避免阳极板被腐蚀。

17、进一步地，所述td311的成分包括质量百分比为3-5%的主剂，0.5-1%的络合剂及0.1-0.2%的分散剂；所述主剂为焦磷酸钾，所述络合剂为三乙醇胺或乙二胺四乙酸二钠中的一种或两种，所述分散剂为nno。

18、进一步地，所述tm312的成分包括质量百分比为6-8%的有机酸及0.2-0.5%的缓蚀剂。

19、进一步地，所述有机酸为酒石酸、柠檬酸、苹果酸中的一种或多种，所述缓蚀剂为钼酸钠、苯并三氮唑中的一种或多种。

20、进一步地，所述步骤s1中将工件上挂，可采用专用挂具将工件上挂或者将工件置于夹具再上挂，其主要目的是保证产品导电良好。可以通过万用表一端连接挂具，另一端连接工件钛合金边框的不同部位来确认导电性以确保工件不同位置均导电良好。

21、进一步地，所述步骤s5对产品进行漂洗的目的是去除工件表面药剂残留并清洁产品。

22、进一步地，所述步骤s6对产品进行干燥的目的是为了防止水分残留造成水印，可以是吹干、甩干或者烘干，将产品干燥后即可进行下挂包装。

23、本发明还提供所述退镀工艺在钛铝结合件退镀中的应用，尤其是在含有铝合金氧化膜中板的手机中框pvd膜层退镀中的应用。

24、综上，与现有技术相比，本发明达到了以下技术效果：

25、（1）本发明提供的钛铝结合件pvd膜层退镀工艺，退镀后的工件退膜完全且能够保持原有钛合金光泽，退镀后的工件颜色为钛合金本色；

26、（2）本发明提供的钛铝结合件pvd膜层退镀工艺退膜效率高；

27、（3）本发明提供的钛铝结合件pvd膜层退镀工艺应用于钛铝结合件中能够保持铝氧化膜不被腐蚀；

28、（4）本发明提供的钛铝结合件pvd膜层退镀工艺能够满足不良品退膜合格并再次利用的要求，且工艺简便，能够大规模推广。

技术特征：

1.一种钛铝结合件pvd膜层退镀工艺，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述ph调节剂为柠檬酸。

3.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤s2中，阳极连接工件，阴极板为不锈钢板或高纯度石墨板中的任意一种。

4. 根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤s2中操作电压为8-13 v，操作温度为20-30℃，退镀时间为10-20 min。

5. 根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤s4中操作电压为2-5 v，操作温度20-30℃，时间5-10 min。

6.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤s4中阴极连接工件，阳极板为高纯度石墨板。

7.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述td311的成分包括质量百分比为3-5%的主剂，0.5-1%络合剂及0.1-0.2%的分散剂；

8.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述tm312的成分包括质量百分比为6-8%的有机酸及0.2-0.5%的缓蚀剂。

9.根据权利要求8所述的退镀工艺，其特征在于，所述有机酸为酒石酸、柠檬酸、苹果酸、草酸中的一种或多种，所述缓蚀剂为钼酸钠、苯并三氮唑中的一种或多种。

10.权利要求1-9任一项所述的退镀工艺在钛铝结合件退镀中的应用。

技术总结本发明公开了一种钛铝结合件PVD膜层退镀工艺及其应用，所述钛铝结合件PVD膜层退镀工艺，包括如下步骤：S1:将工件上挂并确保工件不同位置导电性良好，S2:将上述工件置于退镀液A中退除PVD膜层，S3:将S2处理后的工件进行漂洗，S4:将S3处理后的工件置于退膜液B中去黄膜，S5:将S4处理后的工件进行漂洗，S6:将S5处理后的工件进行干燥处理，所述退镀液A为经pH调节剂调节pH值至7‑8的TD311，所述退膜液B为TM312。本发明的钛铝结合件PVD膜层退镀工艺能够高效退除钛合金表面的PVD膜层，不伤钛合金表面光泽，且不损伤铝合金表面阳极氧化膜，实现PVD镀膜不良品退膜合格并再次利用的要求。技术研发人员：袁清安,马金亮,朱正华,魏仁泽,莫琳受保护的技术使用者：深圳万佳原精化科技股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/12