一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器的制作方法

本发明涉及蒸镀用破真空设备，具体是一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器。

背景技术：

1、真空蒸镀设备中，在玻璃基片镀膜工艺完成之后，由于真空腔室和外界环境之间的气压差距大，如果想要将加工好的产品取出，需要先将真空环境解除，让空气(或其他气体)进入内部平衡气压，以此完成破真空流程。同时，真空腔体中的蒸镀材料弥散在腔体内部，有可能会进入破真空管路中，给真空管路造成污染。

2、现有技术中，破真空工艺是外界气体通过管道充入真空腔室中，管道与真空腔室之间通过扩散器对接，扩散器对充入的气体有缓冲作用。有时在气体流速过快时，会造成扩散器上方的玻璃基片不稳定，甚至玻璃基片有被吹碎的情况产生；有些扩散器虽然能保证气体流出的速率稳定，不给玻璃基片造成干扰，但与之对应的破真空时间加长，影响蒸镀设备的生产节拍，达不到预期的工艺生产时间需求。而且，扩散器长期暴露在蒸镀设备中，蒸镀材料会沉积在扩散器上，长期会导致扩散器堵塞甚至失效。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

3、一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，包括扩散器主体、遮挡罩；

4、所述扩散器主体远离遮挡罩的一端设有进气孔，所述扩散器主体的侧部设有扩散孔，所述遮挡罩设置于所述扩散器主体上且与所述扩散器主体活动连接，所述遮挡罩通过相对扩散器主体移动用来遮挡或打开扩散孔。

5、作为本发明进一步的方案：所述扩散器主体包括同轴布置的扩散器内筒、扩散器外筒，所述扩散器内筒位于所述扩散器外筒内，所述扩散器内筒、扩散器外筒上均设有扩散孔。

6、作为本发明进一步的方案：所述扩散器内筒上设有内筒扩散孔，所述扩散器外筒上设有外筒扩散孔所述外筒扩散孔与内筒扩散孔间隔布置。

7、作为本发明进一步的方案：所述扩散器内筒上设有n行内筒扩散孔，每行内筒扩散孔由上至下设置有m个，且m个内筒扩散孔的直径由上至下依次增加，所述扩散器外筒上设有n行外筒扩散孔，每行外筒扩散孔由上至下设置有m个，且m个外筒扩散孔的直径由上至下依次增加，同一径向平面位置的外筒扩散孔的直径不小于内筒扩散孔的直径。

8、作为本发明进一步的方案：所述遮挡罩包括位于所述扩散器外筒外侧的遮挡片，所述遮挡片设有n片，所述遮挡片的宽度、相邻遮挡片之间的间距均不小于所述外筒扩散孔的最大直径。

9、作为本发明进一步的方案：所述遮挡罩位于所述扩散器主体的上端，所述遮挡罩包括与所述扩散器主体转动连接的遮挡罩主体，所述遮挡罩主体外缘沿所述扩散器主体轴向方向设置有用于遮挡所述扩散孔的遮挡片。

10、作为本发明进一步的方案：所述扩散器内筒、扩散器外筒上端均设有连接通孔，所述遮挡罩主体下端设有固定杆，所述固定杆插接于所述连接通孔内。

11、作为本发明进一步的方案：所述扩散器外筒上端设有轴承座，所述轴承座内设有轴承，所述固定杆通过轴承与所述扩散器外筒转动连接。

12、作为本发明进一步的方案：所述固定杆位于所述扩散器内筒内的一端通过连接螺栓固定连接有旋转部，所述旋转部包括叶片轴，所述叶片轴外侧设有叶片、定位杆，所述定位杆位于所述叶片的上方，所述扩散器内筒内设置第一立柱、第二立柱、第三立柱，所述第一立柱、第二立柱、第三立柱位于所述扩散器内筒上的连接通孔的外侧，所述定位杆位于所述第一立柱、第二立柱之间，所述定位杆通过弹簧与所述第三立柱连接。

13、作为本发明进一步的方案：所述扩散器内筒与所述扩散器外筒远离遮挡罩的一端设有扩散器底座，所述扩散器底座下端设有密封圈，所述进气孔位于所述扩散器底座上，所述扩散器底座上套接有连接部，所述连接部包括连接法兰以及设置于所述连接法兰上的紧固螺栓。

14、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

15、1、本申请通气结构采用内外双层扩散筒的结构设计，并且扩散筒上的扩散孔的孔径从下到上逐渐减小，使得气流在离玻璃基片较远的地方扩散速度快，较近的地方气流更少，可以保证扩散器上部对于玻璃基片的冲击更小。

16、2、本申请通气结构采用内外双层扩散筒的结构设计，并且内外双层扩散筒保持一定的间距，这样气流可以获得二次缓冲效果，可以在不降低破真空效率的同时，对玻璃基片不造成干扰，提高了破真空的效率。

17、3、本申请在最外侧设计了可以根据破真空状态自动开闭的遮挡罩结构，能够起到防止蒸镀材料污染破真空管路的作用。

技术特征：

1.一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，包括扩散器主体(1)、遮挡罩(2)；

2.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器主体(1)包括同轴布置的扩散器内筒(101)、扩散器外筒(102)，所述扩散器内筒(101)位于所述扩散器外筒(102)内，所述扩散器内筒(101)、扩散器外筒(102)上均设有扩散孔。

3.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器内筒(101)上设有内筒扩散孔(103)，所述扩散器外筒(102)上设有外筒扩散孔(104)所述外筒扩散孔(104)与内筒扩散孔(103)间隔布置。

4.根据权利要求3所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器内筒(101)上设有n行内筒扩散孔(103)，每行内筒扩散孔(103)由上至下设置有m个，且m个内筒扩散孔(103)的直径由上至下依次增加，所述扩散器外筒(102)上设有n行外筒扩散孔(104)，每行外筒扩散孔(104)由上至下设置有m个，且m个外筒扩散孔(104)的直径由上至下依次增加，同一径向平面位置的外筒扩散孔(104)的直径不小于内筒扩散孔(103)的直径。

5.根据权利要求4所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述遮挡罩(2)包括位于所述扩散器外筒(102)外侧的遮挡片(204)，所述遮挡片(204)设有n片，所述遮挡片(204)的宽度、相邻遮挡片(204)之间的间距均不小于所述外筒扩散孔(104)的最大直径。

6.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述遮挡罩(2)位于所述扩散器主体(1)的上端，所述遮挡罩(2)包括与所述扩散器主体(1)转动连接的遮挡罩主体(201)，所述遮挡罩主体(201)外缘沿所述扩散器主体(1)轴向方向设置有用于遮挡所述扩散孔的遮挡片(204)。

7.根据权利要求6所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器内筒(101)、扩散器外筒(102)上端均设有连接通孔(109)，所述遮挡罩主体(201)下端设有固定杆(202)，所述固定杆(202)插接于所述连接通孔(109)内。

8.根据权利要求7所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器外筒(102)上端设有轴承座(108)，所述轴承座(108)内设有轴承(106)，所述固定杆(202)通过轴承(106)与所述扩散器外筒(102)转动连接。

9.根据权利要求7所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述固定杆(202)位于所述扩散器内筒(101)内的一端通过连接螺栓(205)固定连接有旋转部(203)，所述旋转部(203)包括叶片轴(206)，所述叶片轴(206)外侧设有叶片(208)、定位杆(207)，所述定位杆(207)位于所述叶片(208)的上方，所述扩散器内筒(101)内设置第一立柱(110)、第二立柱(111)、第三立柱(112)，所述第一立柱(110)、第二立柱(111)、第三立柱(112)位于所述扩散器内筒(101)上的连接通孔(109)的外侧，所述定位杆(207)位于所述第一立柱(110)、第二立柱(111)之间，所述定位杆(207)通过弹簧与所述第三立柱(112)连接。

10.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，其特征在于，所述扩散器内筒(101)与所述扩散器外筒(102)远离遮挡罩(2)的一端设有扩散器底座，所述扩散器底座下端设有密封圈(107)，所述进气孔(105)位于所述扩散器底座上，所述扩散器底座上套接有连接部(3)，所述连接部(3)包括连接法兰(301)以及设置于所述连接法兰(301)上的紧固螺栓(302)。

技术总结本发明公开了一种用于蒸镀设备真空腔室破真空扩散器，包括扩散器主体、遮挡罩；所述扩散器主体远离遮挡罩的一端设有进气孔，所述扩散器主体的侧部设有扩散孔，所述遮挡罩设置于所述扩散器主体上且与所述扩散器主体活动连接，所述遮挡罩通过相对扩散器主体移动用来遮挡或打开扩散孔，本申请通气结构采用内外双层扩散筒的结构设计，并且扩散筒上的扩散孔的孔径从下到上逐渐减小，使得气流在离玻璃基片较远的地方扩散速度快，较近的地方气流更少，可以保证扩散器上部对于玻璃基片的冲击更小。技术研发人员：曹景博,冯家乐,郭朝霞,李建中受保护的技术使用者：合肥欣奕华智能机器股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/29