真空镀膜设备的传送机构的制作方法

本申请涉及真空镀膜设备，特别是涉及一种真空镀膜设备的传送机构。

背景技术：

1、物理气相沉积（pvd）是将原子或分子由源靶材转移到基板表面形成薄膜的过程，广泛应用于半导体和显示面板等镀膜工艺中。目前，用于物理气相沉积的真空镀膜设备主要包括两种类型，分别为卧式真空镀膜设备和立式真空镀膜设备。

2、现有的真空镀膜设备中，基板架是基板常用的承载工具，主要采用滚轮与基板架硬接触的传动方式，该传动方式虽然简单，但是传送稳定性差，并且在传动过程中基板架与滚轮摩擦会产生粉尘污染，导致真空镀膜设备中partical含量的上升，影响真空镀膜设备的清洁度，限制了真空镀膜设备的应用。

技术实现思路

1、鉴于现有技术问题，本申请提供一种真空镀膜设备的传送机构，能够实现高效和稳定地传送基板架，并且在传送过程中可有效避免粉尘污染的产生，从而有利于提升真空镀膜设备的镀膜效果。

2、本申请中真空镀膜设备的传送机构，包括：

3、基板架，用于承载待镀膜工件；

4、滑轨，设置在所述基板架的一侧且沿第一方向延伸，所述滑轨上设置有沿所述第一方向连续排列布置的第一磁性件；

5、滑座，带有与所述滑轨配合的滑槽，所述第一磁性件置于所述滑槽内；

6、环形的履带，所述履带可沿所述第一方向循环往复转动，并设置有相对所述第一磁性件布置且沿所述第一方向间隔排列布置的第二磁性件，所述第二磁性件和所述第一磁性件的极性相同，所述第二磁性件与所述第一磁性件的表面磁力的比值为1.1~1.8：1。

7、以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。

8、可选的，所述第二磁性件与所述第一磁性件的表面磁力的比值为1.1~1.8：1。

9、可选的，相邻两个第二磁性件的间隔距离为2~7mm。

10、可选的，所述滑轨伸入所述滑座的内部与所述滑槽配合，所述履带的部分伸入所述滑座的内部，所述第一磁性件与所述第二磁性件直接相斥。

11、可选的，所述滑轨伸入所述滑座的内部，所述履带位于所述滑座的下方且二者之间设置有隔离件，所述第一磁性件与所述第二磁性件隔着所述隔离件相斥。

12、可选的，所述基板架的一侧与所述滑座之间设置有导正结构。

13、可选的，所述导正结构包括设置在所述基板架一侧的导正部以及设置在所述滑座且与所述导正部配合的导正槽。

14、可选的，所述滑槽的顶侧带有沿所述第一方向延伸且所述滑槽连通的所述导正槽，所述导正部与所述滑轨连接且伸入所述导正槽。

15、可选的，所述导正部设置有两个且分布在基板架的左右两侧，所述滑座上沿所述第一方向设置有与各导正部配合的导正槽。

16、可选的，所述导正部为厚度逐渐缩小的翼状结构。

17、可选的，所述滑轨带有位于其底部的所述第一磁性件以及位于所述第一磁性件上方的第三磁性件，所述滑槽的两侧设置有与所述第三磁性件相斥的第四磁性件。

18、可选的，所述传送机构包括驱使履带沿着第一方向循环往复转动的驱动机构，所述驱动机构包括带动所述履带往复转动的滚轮以及驱动所述滚轮转动的电机。

19、与现有技术相比，本申请利用磁性履带与磁性滑轨之间的相互作用，能够实现无接触式、高效和稳定地传送基板架，并且在传送过程中可有效避免粉尘的产生，从而有利于提升真空镀膜设备的使用性能。

技术特征：

1.真空镀膜设备的传送机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，所述第二磁性件与所述第一磁性件的表面磁力的比值为1.1~1.8：1；

3.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，所述滑轨伸入所述滑座的内部与所述滑槽配合，所述履带的部分伸入所述滑座的内部且位于所述滑轨的下方，所述第一磁性件与所述第二磁性件直接相斥。

4.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，所述滑轨伸入所述滑座的内部，所述履带位于所述滑座的下方且二者之间设置有隔离件，所述第一磁性件与所述第二磁性件隔着所述隔离件相斥。

5.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，所述基板架的一侧与所述滑座之间设置有导正结构。

6.根据权利要求5所述的传送机构，其特征在于，所述导正结构包括设置在所述基板架一侧的导正部以及设置在所述滑座且与所述导正部配合的导正槽。

7.根据权利要求6所述的传送机构，其特征在于，所述滑座的顶侧带有沿所述第一方向延伸且与所述滑槽连通的所述导正槽，所述导正部与所述滑轨连接且伸入所述导正槽。

8.根据权利要求6所述的传送机构，其特征在于，所述导正部设置有两个且分布在基板架的左右两侧，所述滑座上沿所述第一方向设置有与各导正部配合的导正槽；

9.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，所述滑轨带有位于其底部的所述第一磁性件以及位于所述第一磁性件上方的第三磁性件，所述滑槽的两侧设置有与所述第三磁性件相斥的第四磁性件。

10.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于，包括驱使履带沿着第一方向循环往复转动的驱动机构，所述驱动机构包括带动所述履带往复转动的滚轮以及驱动所述滚轮转动的电机。

技术总结本申请涉及真空镀膜设备技术领域，公开一种真空镀膜设备的传送机构，包括：用于承载待镀膜工件的基板架；设置在基板架的一侧且沿第一方向延伸的滑轨，滑轨上设置有沿第一方向连续排列布置的第一磁性件；带有与滑轨配合的滑槽的滑座，第一磁性件置于滑槽内；可沿第一方向循环往复运动的环形的履带，履带设置有相对第一磁性件布置且沿第一方向间隔排列布置的第二磁性件，第二磁性件和第一磁性件的极性相同，且第二磁性件的表面磁力大于第一磁性件的表面磁力。本申请利用磁性履带与磁性滑轨之间的相互作用，能够实现无接触式的、高效和稳定地传送基板架，并且在传送过程中可有效避免粉尘的产生，从而有利于提升真空镀膜设备的使用性能。技术研发人员：陈桉苡,刘安辉,黄俊凯,苏芃因,俞峰,沈纬徵,郑博鸿受保护的技术使用者：安徽越好电子装备有限公司技术研发日：技术公布日：2024/12/2